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| US4078935 | 1975年4月30日 | 1978年3月14日 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support member |
| US4173480 | 1978年4月11日 | 1979年11月6日 | Wiggins Teape Limited | Photographic sheet with synthetic hectorite antistatic additive as sizing or backcoat |
| US4203769 | 1976年7月14日 | 1980年5月20日 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive elements having an antistatic layer containing amorphous vanadium pentoxide |
| US4242438 | 1975年9月8日 | 1980年12月30日 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photomask material |
| US4264707 | 1978年10月13日 | 1981年4月28日 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Light-sensitive photographic materials with improved antistatic layers |
| US4394441 | 1982年1月15日 | 1983年7月19日 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic sensitive materials |
| US4777113 | 1987年5月28日 | 1988年10月11日 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material containing a silica containing overlayer and specific hydrazine derivatives |
| US5213887 | 1991年9月3日 | 1993年5月25日 | Minnesota Mining and Manufacturing Company | Antistatic coatings |
| US5885698 | 1996年7月22日 | 1999年3月23日 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic image-receiving film |
